DH-CVD-XX 系列 氣氛熱處理程控高溫爐
本裝置包含燒結系統(tǒng)、供氣系統(tǒng)、真空系統(tǒng)，供氣系統(tǒng)于一體，應用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備、納米管生長、石墨烯生長以及復合碳材料的滲透等；也可用于氣相傳輸法材料合成及制備納米材料，如 ZnO、CdS 等；溶液法制備薄膜，如制備龐磁電阻薄膜，制備高溫超導薄膜等；固相反應法材料合成；在大氣、真空或氣氛保護下進行各種材料的熱處理。
設備規(guī)格及配置
本裝置包含燒結系統(tǒng)、供氣系統(tǒng)、真空系統(tǒng)，供氣系統(tǒng)于一體，應用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備、納米管生長、石墨烯生長以及復合碳材料的滲透等；也可用于氣相傳輸法材料合成及制備納米材料，如 ZnO、CdS 等；溶液法制備薄膜，如制備龐磁電阻薄膜，制備高溫超導薄膜等；固相反應法材料合成；在大氣、真空或氣氛保護下進行各種材料的熱處理。
設備規(guī)格及配置
